SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 지난 7일 개최했다고 8일 밝혔다.
올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤옥 지속 경영 담당 부사장과 민경현 특허 담당 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.
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| ▲ (왼쪽부터) 지속경영담당 김윤욱 부사장, 미래기술연구원 황선환 TL, SKHU 장세억 교수, 미래기술연구원 차선용 부사장이 시상식에서 함께한 모습 [SK하이닉스 제공] |
이번 시상식의 최고상인 금상은 총 2건이다. D램 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 신범주 D램 개발 TL과 D램 내부 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU(사내대학) 교수가 수상했다.
SK하이닉스는 이외에도 낸드‧솔루션‧패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신 특허를 선정했다.
또 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총상금 2억 1500만 원을 수여했다.
SK하이닉스는 지난 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 시행 중이다. 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정해 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다.
[메가경제=김형규 기자]
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